什么是氨逃逸率？

    氨逃逸率，一般來說，為SCR脫硝和SNCR脫硝工藝出口，未參與還原反應(yīng)的NH3與出口煙氣總量的體積占比，一般計(jì)量單位為PPM,如果用質(zhì)量占比，則為mg/M3.也叫氨逃逸濃度。

    對(duì)于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，一般有兩個(gè)解釋，分別如下：

    ①DL/T260-2012對(duì)氨逃逸濃度的解釋：煙氣脫硝裝置出口煙氣中氨的質(zhì)量和煙氣體積（標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)、干基、6%o2）之比，用mg/m3表示。
    ②DL/T335-2010<火電廠煙氣脫硝(SCR)系統(tǒng)運(yùn)行技術(shù)規(guī)范.>氨逃逸率描述：在SCR脫硝反應(yīng)器出口中氨的濃度，用UL/L表示。

    由于工藝的不同，測(cè)量地點(diǎn)稍有不同，一般來講，SCR的氨逃逸測(cè)量位置在SCR脫硝反應(yīng)器出口，SNCR的氨逃逸測(cè)量位置在空氣預(yù)熱器之前。同時(shí)氨逃逸在線測(cè)量也有三種方法：①TDLAS激光原位安裝法（適合低含塵煙氣小于5克/m3）。②TDLAS激光抽取法(適合于高含塵煙氣大于20克/m3)。③抽取式化學(xué)分光法（僅適合于少量測(cè)量要求不高的場合、紙廠、化工廠、鋼鐵廠等）。

    山東新澤儀器有限公司生產(chǎn)的TK-1100型氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù)+TDLAS技術(shù)(可調(diào)諧半導(dǎo)體激光光譜吸收技術(shù)），對(duì)脫硝過程中的逃逸氨進(jìn)行連續(xù)在線監(jiān)測(cè)，主要應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域氣體排放監(jiān)測(cè)和過程控制，如燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。

    產(chǎn)品特點(diǎn)：

    1.先進(jìn)的可調(diào)諧半導(dǎo)體激光光譜吸收技術(shù)；
    2.可靠的長光程加熱氣室設(shè)計(jì)，光程可達(dá)760mm；
    3.超低濃度測(cè)量，分辨率可達(dá)0.1ppm；
    4.半導(dǎo)體激光的譜寬小于0.001nm，避免粉塵和水分交叉干擾；
    5.設(shè)備維護(hù)簡單，使用成本低。